每經AI快訊(xun)，3月9日(ri)(ri)，荷(he)(he)蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）9日(ri)(ri)上午發(fa)布(bu)聲明表(biao)示，ASML預(yu)計必須申請許可(ke)證方可(ke)出(chu)(chu)口(kou)(kou)DUV設備。同(tong)時公司還(huan)表(biao)示“新(xin)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)出(chu)(chu)口(kou)(kou)管(guan)制(zhi)措施并(bing)不針對所有(you)浸潤式光刻系(xi)統(tong)(tong)，先進程(cheng)度(du)相對較低(di)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)浸潤式光刻系(xi)統(tong)(tong)已能很好(hao)滿足成熟制(zhi)程(cheng)為主(zhu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)客戶的(de)(de)(de)(de)(de)(de)需求。”荷(he)(he)蘭政府在(zai)3月8日(ri)(ri)表(biao)示，計劃對半導體技術出(chu)(chu)口(kou)(kou)實施新(xin)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)管(guan)制(zhi)。據(ju)悉，決定(ding)是由(you)荷(he)(he)蘭貿易部長Liesje Schreinemacher在(zai)致荷(he)(he)蘭議會的(de)(de)(de)(de)(de)(de)一(yi)封信(xin)(xin)中(zhong)宣布(bu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)。信(xin)(xin)中(zhong)稱，這些管(guan)制(zhi)措施將(jiang)在(zai)今天夏天之前(qian)開(kai)始實施。盡管(guan)信(xin)(xin)中(zhong)并(bing)沒有(you)指(zhi)名道姓地點出(chu)(chu)ASML和其合(he)作(zuo)伙(huo)伴，但(dan)是ASML在(zai)最新(xin)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)聲明中(zhong)指(zhi)出(chu)(chu)，這些新(xin)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)出(chu)(chu)口(kou)(kou)管(guan)制(zhi)措施側重于先進的(de)(de)(de)(de)(de)(de)芯片(pian)制(zhi)造技術，包括最先進的(de)(de)(de)(de)(de)(de)沉積設備和浸潤式光刻系(xi)統(tong)(tong)。 (第一(yi)財經)